智能制造与趋势

时间：2022-01-11 作者：项昂之，吕汶辉

【摘要】本文针对标准源刻度法、无源刻度法、有源无源结合刻度法等3种高纯锗探测器（HPGe）效率刻度方法开展比较研究，分析了各种方法的优劣势、适用能量范围以及相对偏差，得出了无源刻度或有源无源结合效率刻度方法代替标准源刻度的条件要求。

关键词：高纯锗探测器（HPGe）；探测效率；效率刻度方法

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