半导体 AMAT Centura 设备温度故障分析与处理方法
时间:2025-06-23 作者:陆爱国
【摘要】在半导体行业中,外延生长工艺通常需要较高的温度,在高温下通过载气输送硅的气态化合物(如 SiH4、DCS、TCS)蒸汽,与氢气发生化学反应将硅的气态化合物还原成硅,并以单晶形式淀积在硅衬底表面。美国 AMAT Centura5200 设备作为外延生产工艺的主流设备之一,经常出现工艺温度异常报警,因温度异常报警原因多、处理复杂,需要花费较长的时间去 Troubleshooting,严重影响设备的Up time,严重时甚至出现烧毁配件的现象,给公司带来严重的经济损失。通过数据收集及相关的故障处理经验总结,建立完善的 FTA,能迅速准确地找到故障原因缩短处理时间,从而有效提高设备 Up time。
关键词:半导体;AMAT Centura;外延;Up time